国度常识产权局信息夸耀，朗姆磋磨公司肯求一项名为“在随意填充膜蚀刻时代具有防止和原位钝化及硬掩模保护的原子层千里积”的专利，公开号CN122181220A，肯求日历为2024年11月。
专利纲领夸耀，本文公开波及践诺具有原位钝化的等离子体增强原子层千里积(PEALD)以及在践诺随意填充膜蚀刻时保护硬掩模的示例。一个示例提供了一种要领，其包括践诺多个PEALD轮回以将膜千里积到随意中。每个PEALD轮回包括将膜前体引入束缚室，以将膜前体吸附到随意内的名义上，葡萄新京官方网站2026最新版然后清扫该室。PEALD轮回还包括在回荡神色中，使用包含响应物和防止剂的气体夹杂物酿成等离子体，以将衬底夸耀于防止剂并将膜前体回荡成随意内的膜。PEALD轮回还包括在回荡神色之后的钝化神色中，将衬底夸耀于包含钝化剂的等离子体以从随意中的名义去除至少一些防止剂。
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